VietDaily | Tin tức hàng ngày
Advertisement
  • Home
  • Kinh doanh
    • Tài chính
    • Doanh nghiệp
    • Doanh nhân
  • Bất động sản
  • Giáo dục
    • Du học
    • Tuyển sinh
  • Giải trí
    • Âm nhạc
    • Điện ảnh
    • Hậu trường
    • Thời trang
    • Truyền hình
  • Công nghệ
    • Điện thoại
    • Máy tính
    • Thị trường
  • Xe
    • Ôtô
    • Xe máy
  • Đời sống
    • Gia đình
      • Tình yêu
      • Tổ ấm
    • Sức khỏe
      • Tham vấn
      • Ẩm thực
    • Video
    • Cười
  • Du lịch
  • Sức khỏe
    • Ẩm thực
    • Tham vấn
  • Làm đẹp
  • Home
  • Kinh doanh
    • Tài chính
    • Doanh nghiệp
    • Doanh nhân
  • Bất động sản
  • Giáo dục
    • Du học
    • Tuyển sinh
  • Giải trí
    • Âm nhạc
    • Điện ảnh
    • Hậu trường
    • Thời trang
    • Truyền hình
  • Công nghệ
    • Điện thoại
    • Máy tính
    • Thị trường
  • Xe
    • Ôtô
    • Xe máy
  • Đời sống
    • Gia đình
      • Tình yêu
      • Tổ ấm
    • Sức khỏe
      • Tham vấn
      • Ẩm thực
    • Video
    • Cười
  • Du lịch
  • Sức khỏe
    • Ẩm thực
    • Tham vấn
  • Làm đẹp
VietDaily | Tin tức hàng ngày
No Result
View All Result

Intel mở ra kỷ nguyên mới trong sản xuất chip với công nghệ High NA EUV

Thứ Sáu, 19/04/2024 - 15:35
Intel High Na Euv 3 2

Intel trở thành đơn vị đầu tiên trong ngành ứng dụng công nghệ High NA EUV vào sản xuất chip, qua đó tiếp tục khẳng định vị thế dẫn đầu về tiến trình sản xuất, với những thế hệ mới tân tiến hơn Intel 18A. 

Intel Foundry đánh dấu cột mốc quan trọng trong kỷ nguyên sản xuất bán dẫn với việc hoàn thiện máy quang khắc siêu cực tím (Extreme Ultraviolet, viết tắt EUV) sử dụng công nghệ khẩu độ số học lớn (High Numerical Aperture, viết tắt High NA) thương mại đầu tiên trong ngành bán dẫn, được đặt tại nhà máy của Intel ở Hillsboro, Oregon.

Được phát triển bởi ASML, công ty hàng đầu thế giới về sản xuất thiết bị quang khắc, Hệ thống TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV của Intel hiện đang trong quá trình hiệu chuẩn để sẵn sàng cho lộ trình sản xuất sắp tới của hãng. Điểm nổi bật của hệ thống nằm ở khả năng cải tiến vượt bậc về độ phân giải và khả năng thu nhỏ các chi tiết trên những thế hệ vi xử lý tiếp theo nhờ thiết kế quang học tiên tiến cho việc in bản mạch lên các tấm bán dẫn silicon (wafer) trở nên chính xác hơn, làm tiền đề cho sự ra đời của những bộ vi xử lý thế hệ mới mạnh mẽ hơn. 

“Với việc áp dụng công nghệ High NA EUV, Intel là đơn vị sở hữu hệ thống quang khắc toàn diện nhất trong ngành. Điều này giúp chúng tôi phát triển những tiến trình tương lai vượt trội hơn Intel 18A trong nửa sau của thập kỷ này.”

Ông Mark Phillips, Chuyên gia của Intel kiêm Giám đốc mảng Quang khắc, Phần cứng và Giải pháp, Intel Foundry Logic Technology Development. 

Vai trò then chốt của công nghệ High NA EUV

Công nghệ High NA EUV sẽ đóng vai trò quan trọng trong việc phát triển chip tiên tiến và sản xuất vi xử lý thế hệ mới. Là đơn vị đi đầu trong việc ứng dụng công nghệ High NA EUV, Intel Foundry sẽ sở hữu khả năng sản xuất chip với độ chính xác và quy mô chưa từng có. Nhờ vậy, Intel có thể phát triển những sản phẩm đột phá cả về tính năng và khả năng cần thiết để thúc đẩy tiến bộ trong lĩnh vực AI và các công nghệ mới nổi khác. 

Mới đây, ASML đã công bố về việc dùng phương pháp quang khắc để tạo ra các đường mạch chỉ dày 10 nanomet (nm) đầu tiên tại phòng thí nghiệm High NA tại trụ sở chính ở Veldhoven, Hà Lan. Đây là những đường mạch tối ưu nhất được in ra từ trước đến nay, thiết lập kỉ lục thế giới về độ phân giải tạo ra từ hệ thống quét quang khắc siêu cực tím (EUV lithography scanner). Thử nghiệm thành công này minh chứng rõ nét cho sự đột phá về thiết kế ống kính quang học trong máy quét High NA EUV từ đối tác của ASML, Zeiss. 

Những hình ảnh ấn tượng đã được in ra sau khi bộ phận quang học, cảm biến, và bệ đỡ của hệ thống hoàn thành vòng hiệu chuẩn ban đầu. Đây là bước đệm quan trọng để hệ thống hoạt động với công suất tối đa. Khả năng in các đường mạch chỉ dày 10nm của ASML với hệ thống quang khắc toàn trường (full field) có thể được xem là bước ngoặt quan trọng trong việc đưa công nghệ High NA EUV vào các hoạt động thương mại.

Tối ưu chi phí và hiệu năng với công nghệ mới

Bằng việc kết hợp với các tiến trình tiên tiến khác của Intel Foundry, công nghệ High NA EUV có khả năng in ra các chi tiết với kích thước nhỏ hơn 1,7 lần so với các công cụ EUV hiện hành. Điều này giúp thu nhỏ các chi tiết 2D, nâng mật độ bóng bán dẫn cao hơn 2,9 lần. Nhờ đó, Intel tiếp tục đi đầu trong việc phát triển các vi mạch có kích thước nhỏ hơn, mật độ cao hơn, góp phần phát triển Định luật Moore trong lĩnh vực sản xuất bán dẫn. 

So với 0.33NA EUV, công nghệ High NA EUV (hoặc 0.55NA EUV) mang lại độ tương phản hình ảnh cao hơn trên cùng chi tiết. Qua đó, công nghê này sử dụng ít ánh sáng hơn trong mỗi lần phơi sáng nhằm giảm thời gian cần thiết để in từng lớp và tăng sản lượng tấm bán dẫn.

Intel dự kiến sử dụng đồng thời cả hai hệ thống 0.33NA EUV và 0.55NA EUV cùng với các hệ thống quang khắc khác trong phát triển và sản xuất ra những sản phẩm chip tân tiến hơn,  bắt đầu với việc thử nghiệm trên tiến trình Intel 18A vào năm 2025 và tiếp tục được áp dụng vào sản xuất tiến trình Intel 14A. Bằng phương pháp này, Intel hướng tới tối ưu hóa chi phí và hiệu năng cho công nghệ sản xuất tiên tiến của mình.

Intel High Na Euv 4 2

Sứ mệnh tiên phong của Intel

Trong nhiều thập kỷ qua, Intel đã hợp tác chặt chẽ với ASML để thúc đẩy sự phát triển của công nghệ quang khắc, từ quang khắc nhúng 193nm đến EUV và nay là High NA EUV. Thành quả hợp tác này chính là hệ thống quang khắc siêu cực tím TWINSCAN EXE:5000 – một trong những công cụ sản xuất chip tiên tiến nhất hiện nay. Việc ứng dụng công nghệ quang khắc High NA EUV đưa Intel trở thành đầu tàu trong việc triển khai Định luật Moore, đưa công ty bước vào Kỷ nguyên Angstrom.  

Hệ thống TWINSCAN EXE:5000 được vận chuyển đến Oregon bằng hơn 250 thùng chứa bên trong 43 container. Sau nhiều chuyến bay đến Seattle, các container được 20 xe tải vận chuyển đến Oregon. Tổng trọng lượng của mỗi hệ thống mới lên tới hơn 150 tấn.

Intel công bố kế hoạch ứng dụng công nghệ High NA EUV vào năm 2021. Đến năm 2022, Intel và ASML tiếp tục hợp tác để thúc đẩy phát triển công nghệ tiên tiến này. Theo kế hoạch, Intel sẽ trang bị hệ thống TWINSCAN EXE:5200B thế hệ mới với năng suất hơn 200 tấm bán dẫn mỗi giờ, qua đó khẳng định vị thế dẫn đầu của Intel trong ngành. 

Đăng Hải / Thị Trường Giao Dịch

Related Posts

Redmi Pad 2 Scenario Angle 3
Công nghệ

Redmi Pad 2 Series ra mắt: Màn hình lớn, pin khủng, giá chỉ từ 4.99 triệu đồng

Unnamed (3)
Công nghệ

OPPO ra mắt bộ đôi OPPO Watch X2 và OPPO Watch X2 Mini

Unnamed 1 2 2
Công nghệ

OPPO ra mắt OPPO Pad SE – Giải pháp giải trí gia đình và sáng tạo mọi lúc mọi nơi

Unnamed 2 1 2
Công nghệ

Chuyên gia chân dung AI OPPO Reno14 Series ra mắt, giá từ 10.49 triệu đồng

Xiaomi Smart Band 10 Model Angle 6 2 2
Công nghệ

Xiaomi Smart Band 10 chính thức ra mắt: Màn hình lớn, kết nối thông minh

Unnamed
Công nghệ

Mua laptop đi học 2025: Mỏng nhẹ, AI, pin lâu đang là “combo” được săn đón

Unnamed (1)
Công nghệ

Sơn Tùng M-TP đồng hành OPPO Reno14 Series: Khi những phiên bản tốt nhất gặp nhau 

Unnamed 21 2
Công nghệ

Khám phá hệ sinh thái sản phẩm Viettel AI: Giải pháp toàn diện cho chuyển đổi số

Iphone Chinh Hang Gia Duoi 10 Trieu Thoi Diem Vang Sam Smartphone Xin 2
Công nghệ

iPhone chính hãng dưới 10 triệu: Thời điểm ‘vàng’ sắm smartphone xịn?

Tin cập nhật

Dcim100mediadji 0063.jpg
Kinh doanh

Bộ Tài chính kiến nghị làm rõ lựa chọn nhà thầu cao tốc TPHCM – Chơn Thành

Su That Dang Sau Vu Xe Gap Nan 4 Tan Vai Bi Nhat Gan Het 1
Đời sống

Sự thật đằng sau vụ xe gặp nạn, 4 tấn vải bị nhặt gần hết

Unnamed File 2 1
Kinh doanh

Thu hồi nhiều sản phẩm sữa UC2 của Dược Loha

Default
Kinh doanh

Triển khai mở rộng đoạn cao tốc TPHCM – Long Thành theo công trình khẩn cấp

Xuat Hien Thu Doan Lua Dao Cai Ung Dung Vneid Gia Sau Sap Nhap Tinh Thanh 1
Đời sống

Xuất hiện thủ đoạn lừa đảo cài ứng dụng VNeID giả sau sáp nhập tỉnh thành

Vu Cong Ty C P Viet Nam Bi To Ban Heo Benh Dieu Tra Dong Co Phat Tan Vu Viec 2
Đời sống

Vụ Công ty C.P. Việt Nam bị tố bán heo bệnh: Điều tra động cơ phát tán vụ việc

Nguoi Khong Chuyen Trach Cap Xa Co The Duoc Tiep Nhan Vao Cong Chuc Neu Du Dieu Kien 1
Đời sống

Người không chuyên trách cấp xã có thể được tiếp nhận vào công chức nếu đủ điều kiện

Unnamed 10 1
Làm đẹp

Versace Eros Energy: Sự bùng nổ của đam mê và năng lượng

Nan Nhan Cau Cuu Bat Thanh Trong Vu Chay Cu Xa Doc Lap 1
Đời sống

Nạn nhân cầu cứu bất thành trong vụ cháy cư xá Độc Lập

Luu Ban Nhap Tu Dong 5
Đời sống

Công bố Quyết định của Chủ tịch nước về đặc xá dịp Quốc khánh 2/9

VietDaily.vn

Quản lý nội dung: Phạm Đức Quỳnh
Trưởng ban biên tập: Nhà báo Nguyễn Thanh Bình
Trụ sở: 49 đường D5, P. 25, Q. Bình Thạnh, TP. HCM
Điện thoại: 028 3602 4005 – 0919 099 989
Email: ducquynh001@gmail.com

Giấy phép hoạt động số 65/GP-TTĐT do Sở Thông tin và Truyền thông TP. HCM cấp ngày 4-10-2019

© 2019 VietDaily

No Result
View All Result
  • Trang chủ
  • Kinh doanh
  • Bất động sản
  • Giáo dục
  • Giải trí
  • Công nghệ
  • Xe
  • Đời sống
  • Du lịch
  • Sức khỏe
  • Làm đẹp

© 2019 VietDaily